Группа CVD technologies NanoCamp™ создана в марте 2013 года магистрантами факультета наук о материалах Московского Государственного Университета имени М.В. Ломоносова, в рамках реализации Концепции развития научно-технического творчества молодежи в образовательных учреждениях города Москвы на период 2012-2014 годов.
Целями создания проектной группы являются:
- формирование интереса учащихся к проектной, исследовательской, конструкторской и изобретательской деятельности;
- пропаганда достижений в области нанотехнологий;
- профориентация учащихся старших классов.
Основной задачей работы Группы CVD technologies NanoCamp™ со школьниками является получение буферных слоев требуемого качества с использованием метода химического осаждения из паровой фазы (MOCVD) на подложках. Применение MOCVD вместо используемых на данный момент, но требующих высокого или сверхвысокого вакуума и дорогостоящего оборудования “физических” методов (таких как молекулярно-лучевая эпитаксия (MBE), магнетронное распыление, осаждение с одновременным травлением ионным пучком (IBAD)) позволит значительно снизить себестоимость получения ВТСП-проводов второго поколения и приблизить их широкое практическое применение.
ВТСП-провода второго поколения представляют собой текстурированную пленку сверхпроводника YBa2Cu3O7 на поверхности гибкой металлической ленты. Между лентой и сверхпроводником обязательно должны присутствовать так называемые буферные слои, предотвращающие взаимодействие ленты и ВТСП. Важнейшим требованием к буферным слоям является наличие двуосной текстуры, обеспечивающей последующий эпитаксиальный рост слоя ВТСП, необходимый для получения пленки ВТСП с высокой критической плотностью тока.
В ходе работы коллективом Группы была разработана, спроектирована и создана CVD-установка, которая благодаря своим уникальным характеристикам и качеству, относительной ценовой доступности (произведенный анализ цен на оборудование для экспериментов и демонстраций, предлагаемое на отечественном и зарубежном рынке в области нанотехнологий, показал колоссальные конкурентные преимущества авторской установки группы) может быть рекомендована для использования в школах и учреждениях дополнительного образования.
Первый этап научно-экспериментальной работы со школьниками реализуется на базе детского образовательно-оздоровительного лагеря «Нанокэмп» в период школьных весенних каникул (24-29 марта 2013 г.)
На этом этапе происходит формирование у школьников комплекса знаний по современным методам конструирования и проектирования теплотехнических систем и установок, основам техники безопасности и приобретение ими навыков в области применения высокотемпературных теплотехнологий. Под руководством преподавателя познакомятся с методами получения высокочистых твёрдых материалов и ключевыми моментами нанотехнологий, соберут сконструированную научным коллективом Группы CVD установку, получат небольшие пластины металлических подложек с нанесенными нанопленками буферного слоя диоксида церия. Здесь же будет происходить первичный анализ полученных пленок и изучение со школьниками некоторых их свойств.
Дальнейшая проектная научно-экспериментальная работа со школьниками планируется на базе Центра научно-технического творчества и развития "Н.О.Т.А." и в постоянно действующей лаборатории нанотехнологий на базе ресурсного центра "Технорама на юго-востоке" с последующим изучением и анализом полученных материалов в Центре Коллективного Пользования Факультета Наук о Материалах МГУ им. М.В. Ломоносова.