Семинар "Технология наноимпринта для массового производства наноструктур" состоиться 12 марта (четверг) 2009 г. по адресу: г. Москва, пл. Курчатова, д.1, Российский Научный Центр «Курчатовский Институт».
Возможность коммерциализации изделий, основаных на элементах с нанометровыми размерами, в большой степени зависит от наличия экономически эффективного метода создания наноизображений на подложке с их дальнейшим преобразованием в наноструктуры. Одним из таких методов является технология наноимпринта (НИ), основанная на передаче наноразмерного рисунка в резист при помощи механического оттиска с использованием соответствующего штампа. Наноимпринт устойчиво передает элементы рельефа с характерными размерами менее 10 нм. По совокупности параметров разрешения, себестоимости и производительности эта технология успешно конкурирует с традиционными литографическими методами такими как фотолитография и электроннолучевая литография.
Семинар проводится Obducat AB совместно с российской компанией НТК Авант при поддержке Российского Научного Центра «Курчатовский Институт».
